一种单晶硅化学机械抛光液及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202110749762.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113621313A | 公开（公告）日 | 2021-11-09 |
| 申请公布号 | CN113621313A | 申请公布日 | 2021-11-09 |
| 分类号 | C09G1/02（2006.01）I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | 万旭军;王磊 | 申请（专利权）人 | 宁波日晟新材料有限公司 |
| 代理机构 | 北京圣州专利代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 刘岩 |
| 地址 | 315000浙江省宁波市余姚市丈亭镇龙丰村 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种单晶硅化学机械抛光液，所述抛光液由以下重量百分比的原料组成：磨料0.1％wt‑40％wt、电解质0.05％wt‑5％wt、表面活性剂1％wt‑35％wt、余量去离子水；并采用pH调节剂将所述抛光液的pH值调节至8.5‑11.5。本发明还公开了一种单晶硅化学机械抛光液的制备方法，首先将磨料加入到去离子水中，搅拌均匀，再加入电解质和表面活性剂，进一步搅拌均匀，加入pH调节剂，调整混合液的pH值，充分搅拌均匀后，得到抛光液。采用本发明所述的单晶硅化学机械抛光液及其制备方法，能够解决现有的抛光液效率低，易在硅片表面留下损伤的问题，具有制备方法简单、易于操作、生产成本低的优点。 |
