一种低熔点合金及其制备方法、应用
基本信息
| 申请号 | CN202010199485.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113430440A | 公开（公告）日 | 2021-09-24 |
| 申请公布号 | CN113430440A | 申请公布日 | 2021-09-24 |
| 分类号 | C22C28/00（2006.01）I;C22C30/04（2006.01）I;C22C1/02（2006.01）I;H01B1/02（2006.01）I;B23K35/26（2006.01）I;B33Y70/00（2020.01）I | 分类 | 冶金；黑色或有色金属合金；合金或有色金属的处理; |
| 发明人 | 曹宇 | 申请（专利权）人 | 北京梦之墨科技有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 100081北京市海淀区北四环西路67号中关村国际创新大厦505 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种低熔点合金及其制备方法、应用，涉及新材料技术领域。按质量分数计，本发明提供的低熔点合金包括：锡35％～42％、铋8.5％～11.5％、镓0.05％～0.8％和铟46％～55.4％；所述低熔点合金的熔点为80℃～110℃。本发明的技术方案能够同时满足基于有机膜材的电子电路增材制造过和电子元件牢固焊接的要求。 |
