一种高纯硅衬底下电子束熔炼提纯多晶硅的方法及设备

基本信息

申请号 CN201110220767.1 申请日 -
公开(公告)号 CN102408112A 公开(公告)日 2012-04-11
申请公布号 CN102408112A 申请公布日 2012-04-11
分类号 C01B33/037(2006.01)I 分类 无机化学;
发明人 谭毅;刘应宽;盛之林;李佳艳;石爽;刘振远;董伟;姜大川 申请(专利权)人 宁夏宁电光伏材料有限公司
代理机构 大连星海专利事务所 代理人 于忠晶
地址 116024 辽宁省大连市高新园区凌工路2号
法律状态 -

摘要

摘要 本发明属于用物理冶金技术提纯多晶硅的技术领域。一种高纯硅衬底下电子束熔炼提纯多晶硅的方法,第一步备料及预处理;第二步形成高纯硅衬底:然后开启电子束束流为200-500mA完全熔化高纯硅料,缓慢降低束流为零,即在水冷坩埚中形成高纯多晶硅锭,调节电子束束流为150-300mA熔化高纯多晶硅锭,2-5min后形成一层高纯硅衬底;第三步熔炼提纯:高磷硅料连续缓慢落入熔池中,加大束流至300-700mA,高磷硅料熔化后形成高磷硅液,杂质磷得到去除后从导流口流入坩埚之中,得到低磷硅液,凝固后得到低磷的多晶硅锭。本发明方法提纯效果好,工艺简单,节约能源,降低污染,适合批量生产,设备结构简单,构思独特,操作简单,成本低,可实现连续熔炼。