高纯铜靶材制备装置

基本信息

申请号 CN201920353018.8 申请日 -
公开(公告)号 CN209652411U 公开(公告)日 2019-11-19
申请公布号 CN209652411U 申请公布日 2019-11-19
分类号 C23C14/34(2006.01)I; B21J9/18(2006.01)I; B21J9/02(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 付莹; 聂士博; 张居里 申请(专利权)人 锦州富世博新材料研究有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 121000 辽宁省锦州市松山新区黄海大街46-11号305房间
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及靶材制备技术领域,且公开了高纯铜靶材制备装置,包括主板,主板顶部连接有支撑块,支撑块顶部连接有两个固定板,两个固定板互相靠近的两侧与连接杆两端连接,支撑块背面连接有L型支架。本实用新型通过设置主动轮、从动轮、转块、上压板、下压板、活动板和固定杆,利用电机启动带动主动轮转动,由于主动轮与从动轮的传动比为2:1,主动轮转一圈从动轮转半圈,电机转一圈利用转板挤压活动板带动压块进行锻压,此时活动杆带动转块转动半圈,使上压板和下压板互换位置,对上压板和下压板之间的高纯铜锭进行锻打,达到了能自动翻面对高纯铜锭进行锻打,不需要人工操作,使用起来十分方便的目的。