一种Ag-Cu薄膜的制备方法
基本信息
申请号 | CN201610638112.9 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN106435542B | 公开(公告)日 | 2019-04-16 |
申请公布号 | CN106435542B | 申请公布日 | 2019-04-16 |
分类号 | C23C18/44(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 吴小平; 李小云; 王顺利; 史建军; 金立; 杨欧 | 申请(专利权)人 | 天津鼎晟科技发展有限公司 |
代理机构 | 南京正联知识产权代理有限公司 | 代理人 | 浙江理工大学;天津鼎晟科技发展有限公司;菏泽华意化工有限公司 |
地址 | 310000 浙江省杭州市经济技术开发区白杨街道2号大街928号 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明提供了一种Ag‑Cu薄膜的制备方法,包括以下制备步骤:处理Cu片,准备高纯Cu片;配置含有一定量的SDS的硫酸铜溶液,并将处理后的Cu片插入上述溶液中;加热至40‑60℃,保持3‑6小时,取出,即形成Cu2O‑Cu片;将上述Cu2O‑Cu片插入一定浓度的柠檬酸钠溶液中;加入一定量的AgNO3溶液,室温搅拌;再快速加入一定量的氨水,继续搅拌一定时间,取出样品。本发明的原料廉价易得,合成工艺简单,成本低,反应周期短,反应便于控制,制备的样品均匀,Ag薄膜牢固,不易脱落,且其表面也生成片状结构,且热点较多,利于表面拉曼增强,利于循环利用,也利于制成器件,且对环境无污染。 |
