MOSFET晶体管

基本信息

申请号 CN202022128933.2 申请日 -
公开(公告)号 CN213459746U 公开(公告)日 2021-06-15
申请公布号 CN213459746U 申请公布日 2021-06-15
分类号 H01L29/78;H01L29/06;H01L29/417;H01L21/336 分类 基本电气元件;
发明人 倪炜江 申请(专利权)人 芜湖启源微电子科技合伙企业(有限合伙)
代理机构 北京知帆远景知识产权代理有限公司 代理人 崔建锋
地址 241002 安徽省芜湖市弋江区高新技术产业开发区服务外包产业园3号楼1804层
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型公开了一种MOSFET晶体管,MOSFET晶体管包括:衬底;缓冲层;漂移区;掺杂基区;帽层;多个沟槽;多个沟槽自帽层一侧向衬底一侧延伸,并延伸至漂移区内;多个重掺杂区,重掺杂区位于漂移区内且位于沟槽的底部,第一金属层,第一金属层覆盖部分台面、沟槽的部分底部以及和部分底部相连的侧壁;栅介质层以及栅极;第一电极和第二电极;MOSFET晶体管中具有第一原胞区和第二原胞区。由此,通过设置沟槽、第一原胞区和第二原胞区,实现了重掺杂区对沟槽栅的电场屏蔽,实现了掺杂基区与第二电极的电连接,同时也反并联了肖特基二极管,在不影响原胞尺寸的基础上,可以降低MOSFET晶体管的制备难度,可以降低MOSFET晶体管的生产成本,还可以降低MOSFET晶体管导通电阻。