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用于稳定辊加工的抛光设备

基本信息

申请号 CN201921877462.6 申请日 -
公开（公告）号 CN210938698U 公开（公告）日 2020-07-07
申请公布号 CN210938698U 申请公布日 2020-07-07
分类号 B24B29/04(2006.01)I 分类 -
发明人 温成亮;宋毅;崔克顺 申请（专利权）人 西马克技术（天津）有限公司
代理机构 天津英扬昊睿专利代理事务所（普通合伙） 代理人 吴扬
地址 300000天津市西青区经济开发区赛达北一道12号
法律状态 -

摘要

摘要 用于稳定辊加工的抛光设备，包括工作台、立柱、转轴、抛光机本体、抛光盘、支撑柱、上层板、底板、上调节杆、下调节杆、螺栓、滑道、电机支架、电机，工作台左右两侧相对设有立柱，立柱上分别设有转轴，位于工作台右侧的立柱上的转轴与电机的输出端连接，电机设在电机支架上，工作台后侧设有抛光机本体，抛光机本体上带有抛光盘，抛光机本体下侧设有支撑柱，支撑柱固定安装在上层板上，下层板下侧设有底板，上层板与底板之间分别设有通过螺栓连接的上调节杆与下调节杆，工作台上设有滑道，底板位于滑道内。本实用新型的优点在于：具有有效支撑辅助装置，可以实现抛光设备方便的对稳定辊进行全面抛光，抛光效率高，保证抛光质量，降低了废品率。