一种晶片清洗装置
基本信息
| 申请号 | CN202110430344.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113140488A | 公开（公告）日 | 2021-07-20 |
| 申请公布号 | CN113140488A | 申请公布日 | 2021-07-20 |
| 分类号 | H01L21/67（2006.01）I | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 李奕洋;张泽康;孙永强;冯淦;赵建辉 | 申请（专利权）人 | 瀚天天成电子科技（厦门）有限公司 |
| 代理机构 | 厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 | 代理人 | 何家富 |
| 地址 | 361001福建省厦门市火炬高新区（翔安）产业区翔星路96号建业楼B座一层 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种晶片清洗装置，包括清洗腔、定位板、给水管路、干燥气体管路及盛有酸液的酸缸；酸缸内设有用于产生亚沸状态酸的加热板，酸缸与清洗腔导通；定位板设置于清洗腔内，且定位板上开有用于定位晶片的定位槽；给水管路与清洗腔导通，干燥气体管路也与清洗腔导通，清洗腔内还设有排气孔及排液孔。本装置用亚沸蒸馏的酸蒸汽进行晶片清洗，避免酸液与清洗槽体的直接接触，有效降低清洗酸液的金属含量，进而达到更好的表面金属去除效果，同时还可节约酸液的用量。装置还设置了清洗及干燥管路，可对实现晶片的酸液冲洗，并快速干燥晶片，无残留，效率高。 |
