商标进度

商标申请
2018-10-24
初审公告
已注册
终止
商标详情

| 商标 |
图
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| 商标名称 | 图形 | 商标状态 | 商标无效 |
| 申请日期 | 2018-10-24 | 申请/注册号 | 34232197 |
| 国际分类 | 01类-化学原料 | 是否共有商标 | 否 |
| 申请人名称(中文) | 上海芯刻微材料技术有限责任公司 | 申请人名称(英文) | - |
| 申请人地址(中文) | 上海市松江区思贤路3600号11号楼东侧 | 申请人地址(英文) | - |
| 商标类型 | 商标注册申请---申请收文 | 商标形式 | - |
| 初审公告期号 | - | 初审公告日期 | - |
| 注册公告期号 | 34232197 | 注册公告日期 | - |
| 优先权日期 | - | 代理/办理机构 | 上海脱颖律师事务所 |
| 国际注册日 | - | 后期指定日期 | - |
| 专用权期限 | - | ||
| 商标公告 | - | ||
| 商品/服务 |
光致抗蚀剂()
摄影用化学制剂(0107)
摄影用显影剂(0107)
摄影用感光剂(0107)
照片显影用化学合成物(0107)
半导体制造用蚀刻剂(0104)
半导体生产中在半导体晶片上沉积薄膜用化工原料(0104)
工业用胶(0115)
工业用化学品(0104)
科学用化学制剂(非医用、非兽医用)(0106)
科学用化学制剂(非医用、非兽医用)
光致抗蚀剂(0104)
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| 商标流程 |
2018-10-24
商标注册申请---申请收文 |
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