一种银钪合金溅射靶材及其制备方法
基本信息
申请号 | CN202111181429.1 | 申请日 | - |
公开(公告)号 | CN114015989A | 公开(公告)日 | 2022-02-08 |
申请公布号 | CN114015989A | 申请公布日 | 2022-02-08 |
分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C22C5/06(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22F1/14(2006.01)I;C21D8/02(2006.01)I;C22B9/04(2006.01)I;B21B27/02(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
发明人 | 曾墩风;王志强;石煜 | 申请(专利权)人 | 芜湖映日科技股份有限公司 |
代理机构 | 南京正联知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨静 |
地址 | 241000安徽省芜湖市中国(安徽)自由贸易试验区芜湖片区衡山路南侧、凤鸣湖北路西侧1#厂房 | ||
法律状态 | - |
摘要
摘要 | 本发明涉及一种银钪合金溅射靶材及其制备方法,由下列质量份数的原料制备而成:Ag:96.90‑99.85份,Sc:0.10‑3.00份;还可以包括质量份数为0.05‑0.15份的掺杂元素,所述掺杂元素选自Ce,Pr,Zr,La,Nb中的一种或两种。本发明银钪合金溅射靶材的制备方法包括熔炼铸锭、加热、轧制、热处理、整形、机械加工、绑定等。本发明在银基中添加合金元素钪,可以有效改善银基靶材的耐硫化性和耐热性;在此基础上,通过添加其它掺杂元素,可以进一步减少晶粒的尺寸、改善靶材的综合性能。上述技术效果的取得,是产品配方、制备方法等多个技术手段综合作用的结果。 |
