一种银钪合金溅射靶材及其制备方法

基本信息

申请号 CN202111181429.1 申请日 -
公开(公告)号 CN114015989A 公开(公告)日 2022-02-08
申请公布号 CN114015989A 申请公布日 2022-02-08
分类号 C23C14/35(2006.01)I;C22C5/06(2006.01)I;C22C1/02(2006.01)I;C22F1/14(2006.01)I;C21D8/02(2006.01)I;C22B9/04(2006.01)I;B21B27/02(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 曾墩风;王志强;石煜 申请(专利权)人 芜湖映日科技股份有限公司
代理机构 南京正联知识产权代理有限公司 代理人 杨静
地址 241000安徽省芜湖市中国(安徽)自由贸易试验区芜湖片区衡山路南侧、凤鸣湖北路西侧1#厂房
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种银钪合金溅射靶材及其制备方法,由下列质量份数的原料制备而成:Ag:96.90‑99.85份,Sc:0.10‑3.00份;还可以包括质量份数为0.05‑0.15份的掺杂元素,所述掺杂元素选自Ce,Pr,Zr,La,Nb中的一种或两种。本发明银钪合金溅射靶材的制备方法包括熔炼铸锭、加热、轧制、热处理、整形、机械加工、绑定等。本发明在银基中添加合金元素钪,可以有效改善银基靶材的耐硫化性和耐热性;在此基础上,通过添加其它掺杂元素,可以进一步减少晶粒的尺寸、改善靶材的综合性能。上述技术效果的取得,是产品配方、制备方法等多个技术手段综合作用的结果。