稀土离子掺杂ITO靶材的制备方法
基本信息
| 申请号 | CN202111234757.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN114032517A | 公开（公告）日 | 2022-02-11 |
| 申请公布号 | CN114032517A | 申请公布日 | 2022-02-11 |
| 分类号 | C23C14/35（2006.01）I;C23C14/08（2006.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 王志强;马建保;林燕明;曾墩风;陶成;毕荣锋 | 申请（专利权）人 | 芜湖映日科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 南京正联知识产权代理有限公司 | 代理人 | 杨静 |
| 地址 | 241000安徽省芜湖市中国（安徽）自由贸易试验区芜湖片区衡山路南侧、凤鸣湖北路西侧1#厂房 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供一种稀土离子掺杂ITO靶材的制备方法，属于ITO靶材领域，通过粉末真空上料‑粉末粗磨‑‑粉末精磨‑粉末纳米级砂磨‑浆料配胶‑喷雾造粒‑混合过筛制得ITO靶材的粉末，再进行干压、冷等静压成型‑素坯进行车削加工‑烧结‑机加工‑绑定检测，通过添加稀土氧化物粉体，解决了高铟锡比ITO靶材致密度不高、容易开裂的问题，提高了薄膜的载流子迁移率，可以更好地应用于太阳能电池行业。 |
