一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射装置
基本信息
| 申请号 | CN201611032173.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN106350777B | 公开（公告）日 | 2019-01-15 |
| 申请公布号 | CN106350777B | 申请公布日 | 2019-01-15 |
| 分类号 | C23C14/35 | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 赵鑫;任明冲;张林;谷士斌;赵冠超;杨荣;李立伟;孟原;郭铁 | 申请（专利权）人 | 新奥光伏能源有限公司 |
| 代理机构 | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 | 代理人 | 黄志华 |
| 地址 | 065001 河北省廊坊市经济技术开发区华祥路106号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种磁控溅射阴极装置及磁控溅射装置，包括：阴极背板，设置在阴极背板底面的底环结构，以及气体管路；其中，底环结构环内限定的区域为靶材放置区域；底环结构包括：固定于阴极背板底面的上环，以及固定于上环背离阴极背板一侧的底环；上环和底环之间形成有环状中空结构，环状中空结构面向靶材放置区域的一侧设置有气体通道；气体管路贯穿阴极背板和上环后与环状中空结构导通。由于气体管路贯穿阴极背板和上环后与环状中空结构导通，并且环状中空结构面向靶材放置区域的一侧设置有气体通道，从而促使气体能够通入环状中空结构内，并沿着气体通道通向靶材，因此，有效缩短了气体与靶材之间的距离，从而使得气体更容易被电离。 |
