一种光罩
基本信息
| 申请号 | CN202011627091.3 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112711173A | 公开（公告）日 | 2021-04-27 |
| 申请公布号 | CN112711173A | 申请公布日 | 2021-04-27 |
| 分类号 | G03F1/38 | 分类 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术〔4〕; |
| 发明人 | 杨鹏;陈胜;江勇;顾浩宇 | 申请（专利权）人 | 苏州科阳半导体有限公司 |
| 代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 | 代理人 | 胡彬 |
| 地址 | 215143 江苏省苏州市苏州相城经济技术开发区漕湖产业园方桥路568号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及半导体制造技术领域，公开了一种光罩，用于在刻蚀槽处光刻形成金属重布线，刻蚀槽包括处于槽顶部的上拐角和处于槽底部的下拐角，刻蚀槽沿水平面上的第一方向延伸。光罩包括透明基板和阻光图形。阻光图形设置在透明基板上，阻光图形能够阻挡激光束或紫外光穿过透明基板，阻光图形包括沿水平面上第二方向延伸的第一阻光区，第一方向与第二方向相垂直，第一阻光区上设有加宽部和内凹部，加宽部凸设在第一阻光区的边缘处，内凹部凹设在第一阻光区的边缘处，且加宽部在刻蚀槽上的投影在上拐角处，内凹部在刻蚀槽上的投影在下拐角处。本发明降低了重布线在刻蚀槽处发生短路或断路的可能性，保证了重布线的功能，提高了产品的合格率。 |
