一种光罩

基本信息

申请号 CN202023309034.9 申请日 -
公开(公告)号 CN213934537U 公开(公告)日 2021-08-10
申请公布号 CN213934537U 申请公布日 2021-08-10
分类号 G03F1/38(2012.01)I 分类 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术〔4〕;
发明人 杨鹏;陈胜;江勇;顾浩宇 申请(专利权)人 苏州科阳半导体有限公司
代理机构 北京品源专利代理有限公司 代理人 胡彬
地址 215143江苏省苏州市苏州相城经济技术开发区漕湖产业园方桥路568号
法律状态 -

摘要

摘要 本实用新型涉及半导体制造技术领域,公开了一种光罩,用于在刻蚀槽处光刻形成金属重布线,刻蚀槽包括处于槽顶部的上拐角和处于槽底部的下拐角,刻蚀槽沿水平面上的第一方向延伸。光罩包括透明基板和阻光图形。阻光图形设置在透明基板上,阻光图形能够阻挡激光束或紫外光穿过透明基板,阻光图形包括沿水平面上第二方向延伸的第一阻光区,第一方向与第二方向相垂直,第一阻光区上设有加宽部和内凹部,加宽部凸设在第一阻光区的边缘处,内凹部凹设在第一阻光区的边缘处,且加宽部在刻蚀槽上的投影在上拐角处,内凹部在刻蚀槽上的投影在下拐角处。本实用新型降低了重布线在刻蚀槽处发生短路或断路的可能性,保证了重布线的功能,提高了产品的合格率。