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一种提高发射补偿测温准确性或一致性的衬底加工方法

基本信息

申请号 CN201210462738.0 申请日 -
公开（公告）号 CN103824903B 公开（公告）日 2017-04-12
申请公布号 CN103824903B 申请公布日 2017-04-12
分类号 H01L33/00(2010.01)I 分类 基本电气元件;
发明人 马亮;梁信伟 申请（专利权）人 同方光电科技有限公司
代理机构 - 代理人 -
地址 100083 北京市海淀区清华同方科技广场A座29层
法律状态 -

摘要

摘要 一种提高发射补偿测温准确性或一致性的衬底加工方法，涉及LED材料工程技术领域。本发明的方法步骤为：对于探测光波长而透明的衬底，平衬底采用双面抛光处理。将图形化衬底正面图形的表面进行平整和光滑处理，并保持图形结构几何特征的均一性，图形化衬底背面进行再抛光处理。对于探测光波长非透明的衬底，平衬底仅进行正面抛光处理。将图形化衬底正面图形的表面进行平整和光滑处理，并保持图形结构几何特征的均一性。加工后的平衬底或者图形化衬底的弯曲度、翘曲度和总厚度变化均小于15微米。本发明通过对平衬底或者图形化衬底表面的加工处理，使衬底表面均匀性提高，以提升测试精度。