防止冷点偏移装置以及光学晶体生长设备
基本信息
| 申请号 | CN202021330222.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN212713843U | 公开（公告）日 | 2021-03-16 |
| 申请公布号 | CN212713843U | 申请公布日 | 2021-03-16 |
| 分类号 | C30B15/20(2006.01)I;C30B28/10(2006.01)I | 分类 | 晶体生长〔3〕; |
| 发明人 | 杨勇;赖维明 | 申请（专利权）人 | 成都东骏激光股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京超凡宏宇专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 毕翔宇 |
| 地址 | 611600四川省成都市蒲江县鹤山镇工业开发区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本申请涉及光学晶体生长设备技术领域，尤其是涉及一种防止冷点偏移装置以及光学晶体生长设备。一种防止冷点偏移装置，包括：坩埚、固定构件以及加热件；坩埚设置在所述固定构件上，加热件环绕所述坩埚设置；固定构件能够固定坩埚以使坩埚与加热件同轴。本申请中利用固定构件固定坩埚，使得坩埚与所述加热件同轴，即保证了坩埚的轴线与加热件发出热量构成的温场的轴线重合，从而确保晶体的冷点不偏移，有利于引晶和放肩，保证了坩埚内的晶体各处生长速率一致。 |
