一种等离子体剥除光纤涂覆层的方法和系统
基本信息
| 申请号 | CN202110783616.0 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113253388A | 公开（公告）日 | 2021-08-13 |
| 申请公布号 | CN113253388A | 申请公布日 | 2021-08-13 |
| 分类号 | G02B6/245 | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 刘茵紫;王勇;兰根书 | 申请（专利权）人 | 武汉聚合光子技术有限公司 |
| 代理机构 | 武汉泰山北斗专利代理事务所（特殊普通合伙） | 代理人 | 董佳佳 |
| 地址 | 430000 湖北省武汉市东湖新技术开发区光谷二路以东，高新五路以南鼎杰现代机电信息孵化园一期12幢2层1号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明适用于光纤激光器技术领域，提供一种等离子体剥除光纤涂覆层的方法和系统，本发明将带涂覆层的光纤置于充满低温等离子体的反应管内，等离子体的电子与活性基团与光纤涂覆层材料发生反应，解析为新的气相物质而脱离表面，最后将气相物质排出即可，实现光纤涂覆层超高洁净度剥除，且不会对光纤表面造成损伤；另外，低温等离子体温度接近室温，不会对光纤造成热损伤或改变光纤波导结构；此外，等离子体均匀存储于腔室中，通过磁场驱动方式可使等离子体能够快速在反应管中均匀分布，从而实现更均匀、更高效地与石英光纤涂覆层反应，保证涂覆剥除分界线平整。 |
