一种用于光波导晶圆生产的湿法清洗装置及其清洗方法
基本信息
| 申请号 | CN201610366976.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105977187B | 公开（公告）日 | 2018-05-15 |
| 申请公布号 | CN105977187B | 申请公布日 | 2018-05-15 |
| 分类号 | H01L21/67;H01L21/02 | 分类 | 基本电气元件; |
| 发明人 | 陈波;郑煜;彭延斌;余朝晃 | 申请（专利权）人 | 湖南新中合光电科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 练光东 |
| 地址 | 410083 湖南省湘西土家族苗族自治州保靖县高新科技产业园区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及晶圆生产领域，具体涉及一种用于光波导晶圆生产的湿法清洗装置及其清洗方法。该装置包括设备框架，设备框架左右两端均设有晶舟架，设备框架内设有HPM清洗槽、SPM清洗槽、多个DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽、BOE清洗槽、硬掩模清洗槽以及转运机器人；HPM清洗槽、SPM清洗槽、多个DI清洗槽、光刻板清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽、BOE清洗槽和硬掩模清洗槽均设有自动定时装置，且HPM清洗槽、SPM清洗槽、晶圆光刻胶清洗槽和硬掩模清洗槽均设有自动加热装置和恒温装置。该湿法清洗装置可实现晶圆清洗的自动化，其清洗方法提高了清洗效果。 |
