一种制造平面光波导器件的方法
基本信息
| 申请号 | CN201610279110.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN105739013B | 公开（公告）日 | 2019-03-22 |
| 申请公布号 | CN105739013B | 申请公布日 | 2019-03-22 |
| 分类号 | G02B6/132（2006.01）I; G02B6/138（2006.01）I; G02B6/13（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 陈波; 郑煜; 彭延斌; 余朝晃 | 申请（专利权）人 | 湖南新中合光电科技股份有限公司 |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 | 代理人 | 李相雨 |
| 地址 | 410083 湖南省长沙市湘西自治州保靖县高新科技产业园区 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明提供了一种制造平面光波导器件的方法。该制造平面光波导器件的方法包括：在晶圆衬底上沉积光波导芯层；退火硬化，使得所述芯层致密均匀；采用物理气相沉积法形成金属掩膜层；涂光刻胶，并进行曝光显影；去光刻胶，反应离子刻蚀金属掩膜；感应耦合刻蚀芯层；采用火焰水解沉积光波导上包层；退火硬化，使得上包层致密均匀；其中，所述晶圆衬底的氢氧根离子小于200PPM，表面残余应力小于1MPa。本发明提供的制造平面光波导器件的方法，无需制做下包层，直接在符合要求的晶圆衬底上沉积光波导芯层，减少了制造步骤及工序环节。 |
