用于高效率抛光含锗基材的化学机械抛光(CMP)组合物
基本信息
| 申请号 | CN201580068363.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN107406721A | 公开（公告）日 | 2017-11-28 |
| 申请公布号 | CN107406721A | 申请公布日 | 2017-11-28 |
| 分类号 | C09G1/02(2006.01)I;C09K3/14(2006.01)I | 分类 | 染料；涂料；抛光剂；天然树脂；黏合剂；其他类目不包含的组合物；其他类目不包含的材料的应用; |
| 发明人 | M·西伯特;M·劳特尔;兰永清;R·赖夏特;A·明希;M·希克斯;G·丹尼尔;B·M·诺勒;K·黄;S·A·奥斯曼易卜拉欣 | 申请（专利权）人 | 巴斯夫（中国）有限公司 |
| 代理机构 | 北京市中咨律师事务所 | 代理人 | 刘娜;刘金辉 |
| 地址 | 德国路德维希港 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明涉及一种化学机械抛光(CMP)组合物(Q)，其包含：(A)无机颗粒，(B)通式(I)化合物，(C)含水介质，其中该组合物(Q)的pH为2至6。 |
