一种基于MEMS的自适应点阵结构光投射方法
基本信息
| 申请号 | CN202011522177.X | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN112729164A | 公开（公告）日 | 2021-04-30 |
| 申请公布号 | CN112729164A | 申请公布日 | 2021-04-30 |
| 分类号 | G01B11/25;G02B26/08;G02B26/10 | 分类 | 测量；测试; |
| 发明人 | 杨涛;彭磊;李晓晓;姜军委;林淦;王丛华;周翔 | 申请（专利权）人 | 革点科技（深圳）有限公司 |
| 代理机构 | 北京科亿知识产权代理事务所（普通合伙） | 代理人 | 汤东凤 |
| 地址 | 518054 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区高新南一道006号TCL大厦A706B | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种基于MEMS的自适应点阵结构光投射方法，包含以下步骤：构建一个单目MEMS结构光三维测量系统；标定所构建的单目MEMS结构光三维测量系统；利用结构光成像方法进行粗成像；反馈调制激光器的光强；利用结构光成像方法进行精细成像。本发明的方案，使用光束扫描的方法，既具有DOE+VCSEL低成本、低功耗、高集成度的优点，还可以进行点阵结构光自适应调节，与传统的DOE配合VCSEL的点阵投影方案相比，具有更好的材质、距离适应性，以及更好的精度。与基于多种曝光的高动态方法相比，本方法在不显著降低帧速率的前提下有效的提高系统的动态范围。 |
