一种WCVD半导体设备的气体喷淋头
基本信息
| 申请号 | CN202121487964.5 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215612436U | 公开（公告）日 | 2022-01-25 |
| 申请公布号 | CN215612436U | 申请公布日 | 2022-01-25 |
| 分类号 | B05B1/30（2006.01）I | 分类 | 一般喷射或雾化；对表面涂覆液体或其他流体的一般方法〔2〕; |
| 发明人 | 陈兆荣 | 申请（专利权）人 | 赛林斯弥（无锡）电子科技有限公司 |
| 代理机构 | 湖南楚墨知识产权代理有限公司 | 代理人 | 麦振声 |
| 地址 | 214000江苏省无锡市锡山区安镇街道丹山路88号锡东创融大厦C座1210 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型涉及气体喷淋头技术领域，具体为一种WCVD半导体设备的气体喷淋头，包括喷头、第一缓冲腔、限流框和导气管，所述喷头内部的顶端设置有第一缓冲腔，且第一缓冲腔的底端设置有第一气孔，所述喷头顶端的中间位置固定连接有限流框，且限流框的一侧固定设置有第一滑槽，并且限流框顶端的一侧固定设置有第二滑槽。本实用新型通过固定块一侧的电动推杆推动第一滑块，可以使第一滑块在限流框上的第一滑槽内滑动，并带动旋转件在限流框的内部进行旋转，同时旋转件的顶端设置有活动块，通过旋转件旋转，可以使活动块底端的第三滑块在第三滑槽上滑动，并使活动块顶端的第二滑块在第二滑槽上滑动，通过活动块的移动，可以调节输气孔的大小。 |
