一种多层非晶硅薄膜的制备方法及太阳能电池
基本信息
| 申请号 | CN202111152795.4 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN113913791A | 公开（公告）日 | 2022-01-11 |
| 申请公布号 | CN113913791A | 申请公布日 | 2022-01-11 |
| 分类号 | C23C16/505（2006.01）I;C23C16/24（2006.01）I;H01L21/02（2006.01）I;H01L31/0747（2012.01）I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 许烁烁;彭宜昌;杨彬;徐伟;李涛;吴易龙 | 申请（专利权）人 | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
| 代理机构 | 湖南兆弘专利事务所（普通合伙） | 代理人 | 何文红 |
| 地址 | 410205湖南省长沙市高新开发区桐梓坡西路586号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本发明公开了一种多层非晶硅薄膜的制备方法及太阳能电池，该制备方法包括：在低射频功率和低加热温度、高的射频功率和加热温度、更高射频频率的条件下，利用PECVD工艺依次在硅片表面沉积三层非晶硅薄膜。本发明多层非晶硅薄膜的制备方法，通过在硅片表面沉积功能不同的多层非晶硅薄膜，不仅能够减少硅片表面或硅片表面超薄氧化硅薄膜的损伤，有利于提高硅片的少子寿命以及电池的转化效率，而且能够显著提高非晶硅薄膜的沉积速率，减少镀膜时间，有利于提高设备产能，具有产能高、生产工序少、生产能耗低等优点，同时本发明制备方法还具有工艺简单、操作方便、易于控制等优点，能够直接利用现有设备进行制备，适合性强，便于工业化利用。 |
