一种用于抛光和研磨的基准块结构
基本信息
| 申请号 | CN202120874632.6 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN215433161U | 公开（公告）日 | 2022-01-07 |
| 申请公布号 | CN215433161U | 申请公布日 | 2022-01-07 |
| 分类号 | B24B37/34（2012.01）I | 分类 | 磨削；抛光; |
| 发明人 | 寇明虎 | 申请（专利权）人 | 北京特思迪设备制造有限公司 |
| 代理机构 | - | 代理人 | - |
| 地址 | 101300北京市顺义区顺强路1号1幢1层北京特思迪设备制造有限公司 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本实用新型公开了一种用于抛光和研磨中的基准块结构，其特征在于：该结构包括基准块和固定螺栓，其中所述固定螺栓固定安装在磨盘的中心位置处，所述固定螺栓上端中心位置处设置有安装槽，所述基准块固定安装在固定螺栓的凹槽内，所述基准块材质采用人造金刚石PCD材质，所述固定螺栓的安装槽底面上设置有若干个下凹的凹槽。避免了加工因旋转摩擦导致的破损和划伤传感器探测头，解决了目前传感器探测头与基准块摩擦导致的磨损情况，延长了传感器探测头的使用寿命，同时提高了检测精度。 |
