一种电致调光薄膜及其制备方法

基本信息

申请号 CN202111310854.6 申请日 -
公开(公告)号 CN114086135A 公开(公告)日 2022-02-25
申请公布号 CN114086135A 申请公布日 2022-02-25
分类号 C23C14/35(2006.01)I;G02F1/137(2006.01)I;G02F1/15(2019.01)I;C09K19/38(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I 分类 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕;
发明人 刘延宁;陈珂珩 申请(专利权)人 苏州瑞纳新材料科技有限公司
代理机构 南京常青藤知识产权代理有限公司 代理人 袁夫文
地址 215000江苏省苏州市苏州工业园区苏胜东路胜港街88号一楼、三楼
法律状态 -

摘要

摘要 本发明涉及一种电致调光薄膜的制备方法,包括如下步骤:步骤1:对基板表面处理:步骤2:在步骤1得到的基板的单面层进行磁控溅射镀制导电膜层;步骤3:将丙烯酸液晶树脂单体、丙烯酸酯单体、乙烯基醚单体、乙二醇苯基醚单体、光引发剂、促进剂按比例充分混合均匀,再加入液晶单体与间隔子混合搅拌均匀,再经脱泡后,制得液晶层;步骤4:通过步骤2的两个基板镀膜面夹合步骤3的液晶层,辊压基板外侧面层,使液晶层形成液晶薄膜,对液晶薄膜施加电场,再对液晶薄膜进行紫外光固化,其后在基板边缘部分涂布液态光学胶LOCA覆盖。本发明制备成型的调光薄膜驱动电压较低,具有优异的对光线透过率的调光效果,成型致密,整体稳定兼容性好。