用于光扩散膜的基膜、光扩散膜、显示装置及其制备方法
基本信息
| 申请号 | CN201910937675.1 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN110596800B | 公开（公告）日 | 2022-02-15 |
| 申请公布号 | CN110596800B | 申请公布日 | 2022-02-15 |
| 分类号 | G02B5/02（2006.01）I;G02F1/13357（2006.01）I | 分类 | 光学; |
| 发明人 | 钟席红;杨勇;赵士军;金玉姣;龚钰 | 申请（专利权）人 | 重庆京东方显示照明有限公司 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 陈平 |
| 地址 | 400714重庆市北碚区水土高新技术产业园云汉大道5号附12号 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 本公开提供一种用于光扩散膜的基膜，所述基膜具有：透明聚合物层，所述透明聚合物层具有多个纳米微孔；和填充在所述多个纳米微孔中的液晶。本公开还提供了光扩散膜、显示器件、及它们的制备方法。 |
