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专利信息8
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种台面沟槽隔离法瞬态电压抑制二极管阵列的芯片及其生产工艺 | 发明专利 | CN201510105153.7 | CN104810281B | 2017-12-19 |
| 2 | 一种磷、硼液态源一次全扩散工艺 | 发明专利 | CN201510105059.1 | CN104766790B | 2017-12-19 |
| 3 | 一种台面芯片双面电泳玻璃钝化工艺 | 发明专利 | CN201510021913.6 | CN104599963B | 2017-12-19 |
| 4 | 一种快恢复二极管FRD芯片及其制作工艺 | 发明专利 | CN201410431131.5 | CN104201102B | 2017-12-12 |
| 5 | 一种台面沟槽隔离法瞬态电压抑制二极管阵列的芯片及其生产工艺 | 发明专利 | CN201510105153.7 | CN104810281A | 2015-07-29 |
| 6 | 一种磷、硼液态源一次全扩散工艺 | 发明专利 | CN201510105059.1 | CN104766790A | 2015-07-08 |
| 7 | 一种台面芯片双面电泳玻璃钝化工艺 | 发明专利 | CN201510021913.6 | CN104599963A | 2015-05-06 |
| 8 | 一种快恢复二极管FRD芯片及其制作工艺 | 发明专利 | CN201410431131.5 | CN104201102A | 2014-12-10 |
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