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专利信息4
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种用于IC铜阻挡层CMP的抛光组合物及其制备方法 | 发明专利 | CN202011055094.4 | CN112175525A | 2021-01-05 |
| 2 | 一种用于IC铜制程CMP后的清洗液及其制备方法 | 发明专利 | CN202011055102.5 | CN112143574A | 2020-12-29 |
| 3 | 一种用于碳化硅CMP的抛光组合物及其制备方法 | 发明专利 | CN202011059655.8 | CN112029417A | 2020-12-04 |
| 4 | 光刻润湿液及其应用 | 发明专利 | CN202010472741.5 | CN111474833A | 2020-07-31 |
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