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  • 宏科

    上海宏科半导体技术有限公司

    存续
    • 地址:上海青浦工业园区天一路455号
    • 简介:-
    • 商标信息 2
    • 专利信息 9
    • 软件著作权 17
    • 作品著作权 1
    • 网站备案 0

    商标信息2

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 PSTEE 40类-材料加工 12156620 商标已注册 2013-02-05 查看
    2 宏科 40类-材料加工 10623986 商标无效 2012-03-15 查看

    专利信息9

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种改进型高洁净度干燥柜 实用新型 CN202120578553.0 CN214792237U 2021-11-19
    2 一种半导体部件孔洞冲压清洗装置 实用新型 CN202020131456.2 CN211726718U 2020-10-23
    3 一种半导体生产用的串联新风系统 实用新型 CN202020033357.0 CN211400219U 2020-09-01
    4 一种半导体陶瓷部件表面有机沉积物的去除方法 发明专利 CN202010017834.9 CN111195625A 2020-05-26
    5 一种用于电子产品包装盘的清洗装置及其清洗方法 发明专利 CN201310083566.0 CN103203341B 2017-12-26
    6 一种用于电子产品包装盘的清洗装置 实用新型 CN201320119441.4 CN203170632U 2013-09-04
    7 一种用于电子产品包装盘的清洗装置及其清洗方法 发明专利 CN201310083566.0 CN103203341A 2013-07-17
    8 适用于清洗上电极的工具 实用新型 CN200920210631.0 CN201728588U 2011-02-02
    9 适用于高洁净环境使用的干燥箱 实用新型 CN200820154426.2 CN201289272Y 2009-08-12

    软件著作权17

    序号 软件名称 软件简称 版本号 登记号 分类号 首次发表日期 登记批准日期
    1 半导体清洗制程系统软件 - V1.0 2021SR1192491 - 2020-05-20 2021-08-12
    2 半导体CVD制程优化系统 - V1.0 2021SR1192486 - 2020-08-25 2021-08-12
    3 半导体部件孔洞冲压清洗控制系统 - V1.0 2021SR1192485 - 2020-05-30 2021-08-12
    4 半导体清洗液移动喷射装置系统 - V1.0 2021SR1186487 - 2020-06-17 2021-08-11
    5 半导体清洗技术研究平台 - V1.0 2021SR1186486 - 2020-07-16 2021-08-11
    6 智能化半导体真空清洗控制软件 - V1.0 2021SR1186461 - 2020-04-19 2021-08-11
    7 半导体CVD安全保护系统 - V1.0 2020SR0185304 10100-0000 2019-07-30 2020-02-27
    8 半导体设备清洗工艺管理软件 - V1.0 2020SR0182253 10100-0000 2019-03-26 2020-02-26
    9 半导体CVD工艺控制软件 - V1.0 2020SR0182017 10100-0000 2019-04-24 2020-02-26
    10 半导体蚀刻技术分析软件 - V1.0 2020SR0181955 10100-0000 2019-08-20 2020-02-26

    作品著作权1

    序号 作品名 作品类别 登记号 创作完成日期 首次发表日期 登记批准日期
    1 PSTEE+图形商标标识 - 国作登字-2021-F-00246147 - 2005 2021

    网站备案0

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