磁控溅射镀膜生产系统及其生产工艺
基本信息
| 申请号 | CN201110451479.7 | 申请日 | - |
| 公开（公告）号 | CN102517553B | 公开（公告）日 | 2013-09-11 |
| 申请公布号 | CN102517553B | 申请公布日 | 2013-09-11 |
| 分类号 | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I | 分类 | 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制〔2〕; |
| 发明人 | 许生;张忠义;梁锐生 | 申请（专利权）人 | 深圳豪威科技集团股份有限公司 |
| 代理机构 | 深圳汇智容达专利商标事务所（普通合伙） | 代理人 | 深圳豪威真空光电子股份有限公司;深圳豪威科技集团股份有限公司 |
| 地址 | 518000 广东省深圳市南山区科技园北区朗山二号路豪威大厦三楼 | ||
| 法律状态 | - | ||
摘要
| 摘要 | 一种磁控溅射镀膜生产系统和工艺，该系统包括进出片室、过渡室、第一旋转室、两个工作站，进出片室、过渡室、第一旋转室依序衔接，两个工作站分别衔接至第一旋转室，一个工作站包括第一镀膜室和第二旋转室，第一镀膜室的两端分别连接至第一、第二旋转室，另一工作站包括镀膜单元和第三旋转室，镀膜单元的两端分别连接至第一、第三旋转室，镀膜单元包括两个串联的第二镀膜室。两个工作站分别实现双层或四层镀膜，通过旋转室调度，长短结合，适于多层减反射玻璃，生产效率和产能高，满足如功能玻璃的多层镀膜的需求。实现每个单层无干扰的独立溅射且其厚度可测可控，通过两工作站的合理调度，可进行任意层数的组合，能满足产品不断升级的要求。 |
