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    武汉二进制半导体有限公司

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    • 地址:武汉东湖新技术开发区高新大道770号光谷科技大厦4层403室KJDSA2022006(自贸区武汉片区)
    • 简介:-
    • 商标信息 0
    • 专利信息 53
    • 软件著作权 0
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 1

    商标信息0

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    专利信息53

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种基于强PUF的抗机器学习安全认证方法及装置 发明专利 CN202110317286.6 CN113206741B 2022-03-25
    2 一种南向接口的适配方法及系统 发明专利 CN201910224043.0 CN109981363B 2022-03-01
    3 一种基于强PUF的抗机器学习安全认证方法及装置 发明专利 CN202110317286.6 CN113206741A 2021-08-03
    4 一种用于OWAMP和TWAMP的发包装置及方法 发明专利 CN201810274290.7 CN108494629B 2020-12-15
    5 一种提升DRAM中数据查找速率的方法及系统 发明专利 CN202010202929.8 CN111459408A 2020-07-28
    6 一种基于分簇设计的Qos实现方法及系统 发明专利 CN201911053089.7 CN110808916A 2020-02-18
    7 一种提高IEEE1588时间戳精度的方法 发明专利 CN201810797841.8 CN109039514B 2020-02-11
    8 一种提高IEEE1588时间戳精度的方法 发明专利 CN201810797841.8 CN109039514A 2020-02-11
    9 通过高速SerDes接口恢复低速数据的方法及系统 发明专利 CN201710399941.0 CN107329915B 2019-12-10
    10 一种VPLS中基于软硬件协同进行MAC地址学习的方法 发明专利 CN201710434275.X CN107332774B 2019-12-03

    软件著作权0

    暂无信息 暂无软件著作权

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案1

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 - - 鄂ICP备2022005535号 企业 2022-04-07
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