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序号	商标名称	国际分类	注册号	状态	申请日期	操作
1	LDNG	-	49174956	商标已注册	2020-08-24	查看

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序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	掩膜版透明光结构透射区域模拟设计系统	-	V1.0	2021SR2107784	-	2021-05-18	2021-12-22
2	微纳结构图形化设计软件	-	V1.0	2021SR2107720	-	2021-06-23	2021-12-22
3	掩膜版蚀刻图形结构设计系统	-	V1.0	2021SR2106308	-	2021-09-28	2021-12-22
4	微纳硅片异形刻蚀精准校正设计系统	-	V1.0	2021SR2106307	-	2021-11-10	2021-12-22
5	微纳结构光学衍射实现设计系统	-	V1.0	2021SR2106305	-	2021-08-18	2021-12-22
6	微纳结构光刻胶电路图案设计软件	-	V1.0	2021SR2106303	-	2021-04-20	2021-12-22
7	微纳结构光刻工艺实现图形设计系统	-	V1.0	2021SR2106302	-	2021-07-07	2021-12-22
8	掩膜版第一表面图形结构设计系统	-	V1.0	2021SR2061076	-	2021-03-23	2021-12-15
9	掩膜版衬底结构刻蚀工艺图形设计系统	-	V1.0	2021SR2061075	-	2021-01-20	2021-12-15
10	掩膜调控制备半导体纳米结构设计系统	-	V1.0	2021SR2061072	-	2020-10-08	2021-12-15

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