商标信息2
专利信息6
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 一种光刻机的过滤机构 | 实用新型 | CN202021145336.4 | CN213977166U | 2021-08-17 |
2 | 一种扩散炉炉门防护装置 | 实用新型 | CN202021145476.1 | CN212512489U | 2021-02-09 |
3 | 一种薄膜刻蚀机的台面清理机构 | 实用新型 | CN202021121704.1 | CN212494073U | 2021-02-09 |
4 | 一种外延炉的废气处理机构 | 实用新型 | CN202021121705.6 | CN212492182U | 2021-02-09 |
5 | 一种清洗机的废水过滤机构 | 实用新型 | CN202021118840.5 | CN212491842U | 2021-02-09 |
6 | 一种离子注入机的质量分析器清理机构 | 实用新型 | CN202021118839.2 | CN212209417U | 2020-12-22 |
软件著作权31
序号 | 软件名称 | 软件简称 | 版本号 | 登记号 | 分类号 | 首次发表日期 | 登记批准日期 |
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1 | 基于时序信号分析的等离子刻蚀故障检测软件 | - | V1.0 | 2020SR1864890 | - | - | 2020-12-21 |
2 | 广奕硅片电阻控制检测系统 | - | V1.0 | 2020SR1864886 | - | - | 2020-12-21 |
3 | 广奕微纳尺度刻蚀与沉积演化仿真软件 | - | V1.0 | 2020SR1864885 | - | - | 2020-12-21 |
4 | 微纳尺度刻蚀与沉积演化仿真软件 | - | V1.0 | 2020SR1864884 | - | - | 2020-12-21 |
5 | 广奕涂胶系统KS-S200-2CID控制系统 | - | V1.0 | 2020SR0810928 | - | - | 2020-07-22 |
6 | 广奕光刻机电路控制板操作系统 | - | V1.0 | 2020SR0810872 | - | - | 2020-07-22 |
7 | 广奕匀胶设备产能分析软件 | - | V1.0 | 2020SR0809274 | - | - | 2020-07-22 |
8 | 广奕智能晶片湿法刻蚀控制系统 | - | V1.0 | 2020SR0809080 | - | - | 2020-07-22 |
9 | 广奕刻蚀工艺的三维表面演化仿真软件 | - | V1.0 | 2020SR0808846 | - | - | 2020-07-22 |
10 | 广奕清洗机真空干燥温度控制系统 | - | V1.0 | 2020SR0807712 | - | - | 2020-07-22 |
作品著作权0
网站备案0
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