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专利信息2
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 一种微波等离子发生系统和蚀刻设备 | 实用新型 | CN202120820527.4 | CN215418097U | 2022-01-04 |
| 2 | 一种晶圆的传片方法和传片平台 | 发明专利 | CN202110234938.X | CN113140483A | 2021-07-20 |
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