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    上海埃延半导体有限公司

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    • 地址:中国(上海)自由贸易试验区临港新片区新杨公路1588号4幢
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    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 化学气相沉积设备 发明专利 CN201811055932.0 CN110885973A 2020-03-17
    2 化学气相沉积设备 实用新型 CN201821482261.1 CN209010598U 2019-06-21

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