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专利信息62

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种集成电路用硅片无损伤转移方法	发明专利	CN202010258603.7	CN113496930A	2021-10-12
2	一种集成电路硅片表面氧化膜自适应均匀腐蚀方法	发明专利	CN202010258262.3	CN113496891A	2021-10-12
3	一种集成电路用硅片的均匀腐蚀方法	发明专利	CN202010258298.1	CN113496887A	2021-10-12
4	一种集成电路用单晶硅片碱腐蚀去除量的控制方法	发明专利	CN202010258257.2	CN113496886A	2021-10-12
5	一种外延基底用硅晶片之背面膜层及制造方法	发明专利	CN202010258596.0	CN113496871A	2021-10-12
6	一种集成电路用硅片边缘形貌控制方法	发明专利	CN202010258530.1	CN113496870A	2021-10-12
7	一种外延基底用硅晶片之背面膜层及制造方法	发明专利	CN202010258297.7	CN113496869A	2021-10-12
8	一种硅片的抛光后清洗方法	发明专利	CN202010258268.0	CN113496868A	2021-10-12
9	硅片金属杂质检测样品保护装置及硅片金属杂质检测方法	发明专利	CN202010258528.4	CN113495095A	2021-10-12
10	一种减少抛光片表面划痕方法	发明专利	CN202010258285.4	CN113492399A	2021-10-12

共 7 页

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