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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种钽溅射靶材、制备方法和磁控溅射方法	发明专利	CN201910128676.1	CN109706431A	2019-05-03
2	一种化学气相沉积高纯钨溅射靶材制作方法	发明专利	CN201910128681.2	CN109609926A	2019-04-12
3	一种化学气相沉积高纯钽溅射靶材制作方法	发明专利	CN201910128675.7	CN109609925A	2019-04-12

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