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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种用于去除半导体晶片蚀刻残留物的清洗组合物	发明专利	CN201810082648.6	CN110095953A	2019-08-06
2	一种用于选择性移除氮化钛硬掩模和/或蚀刻残留物的组合物	发明专利	CN201810082642.9	CN110095952A	2019-08-06
3	一种用于清洗经化学机械抛光的晶片的清洗组合物	发明专利	CN201810082805.3	CN110093616A	2019-08-06

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