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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	离子注入和等离子体沉积设备以及采用等离子体处理薄膜的方法	发明专利	CN201010510359.5	CN101956171B	2013-06-12
2	用于薄膜的连续电镀装置及对薄膜进行连续电镀的方法	发明专利	CN201010510357.6	CN101956221B	2012-08-29
3	一种连续生产挠性覆铜板的方法	发明专利	CN201010510358.0	CN102021576B	2012-06-27
4	一种用于薄膜的连续电镀装置	实用新型	CN201020553824.9	CN201826030U	2011-05-11
5	一种离子注入和等离子体沉积薄膜的设备	实用新型	CN201020553835.7	CN201826010U	2011-05-11
6	一种连续生产挠性覆铜板的方法	发明专利	CN201010510358.0	CN102021576A	2011-04-20
7	用于薄膜的连续电镀装置及对薄膜进行连续电镀的方法	发明专利	CN201010510357.6	CN101956221A	2011-01-26
8	离子注入和等离子体沉积设备以及采用等离子体处理薄膜的方法	发明专利	CN201010510359.5	CN101956171A	2011-01-26

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