商标信息8
序号 | 商标名称 | 国际分类 | 注册号 | 状态 | 申请日期 | 操作 |
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1 | 深圳仕上电子科技有限公司 SHI·A·GE | - | 25948819 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
2 | SHI·A·GE | - | 25948787 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
3 | 仕上 | - | 25948777 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
4 | SHI·A·GE | - | 25943228 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
5 | 仕上 SHI-A-GE | - | 25941702 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
6 | 深圳仕上电子科技有限公司 仕上 SHI-A-GE | - | 25939760 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
7 | 仕上 SHI·A·GE | - | 25935993 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
8 | 仕上 | - | 25932616 | 商标已注册 | 2017-08-18 | 查看 |
专利信息74
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 一种半导体材料表面阳极氧化专用挂具 | 实用新型 | CN202123220646.5 | CN216765091U | 2022-06-17 |
2 | 一种具有加热罩的真空蒸镀装置 | 实用新型 | CN202123220691.0 | CN216765029U | 2022-06-17 |
3 | 一种半导体加工部件电弧溶射专用保护治具 | 实用新型 | CN202123220240.7 | CN216765026U | 2022-06-17 |
4 | 一种氧化加工陶瓷工件的全方位清洗设备 | 实用新型 | CN202123220188.5 | CN216757389U | 2022-06-17 |
5 | 有机蒸镀保护件的清洗方法 | 发明专利 | CN202010026932.9 | CN111167791B | 2021-08-17 |
6 | 具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法 | 发明专利 | CN202110356876.X | CN113235064A | 2021-08-10 |
7 | 具有牺牲层的镀腔内壁构件及其制备方法以及清洗方法 | 发明专利 | CN202110356878.9 | CN113201718A | 2021-08-03 |
8 | NMP洗液循环系统 | 实用新型 | CN202021231839.3 | CN212916798U | 2021-04-09 |
9 | 适用于表面附着物为陶瓷部品的清洗方法 | 发明专利 | CN201810945499.1 | CN109277357B | 2021-04-09 |
10 | 高温烤箱置物架组件 | 实用新型 | CN202021234229.9 | CN212161767U | 2020-12-15 |
软件著作权0
作品著作权0
网站备案2
序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
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1 | - | www.szshiage.net | 粤ICP备19008619号 | 企业 | 2019-03-20 |
2 | - | www.szshiage.com | 粤ICP备19008619号 | 企业 | 2019-03-20 |
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