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序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	晶圆用的化学机械研磨机台	实用新型	CN202022751347.3	CN213999055U	2021-08-20
2	化学机械研磨用的晶圆固定座	实用新型	CN202022751329.5	CN213999052U	2021-08-20
3	晶圆用的化学机械研磨垫	实用新型	CN202022751351.X	CN213999050U	2021-08-20
4	再生晶圆低磨耗的均质化研磨系统	实用新型	CN202022751346.9	CN213999046U	2021-08-20

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