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  • 西源新

    上海西源新能源技术有限公司

    存续
    • 官网:-
    • 地址:上海市奉贤区苍工路1288号第10幢4、5楼
    • 简介:-
    • 商标信息 6
    • 专利信息 74
    • 软件著作权 0
    • 作品著作权 1
    • 网站备案 0

    商标信息6

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 时利可 - 57730815 初审公告 2021-07-15 查看
    2 图形 - 57726987 初审公告 2021-07-15 查看
    3 时利可 - 57726976 初审公告 2021-07-15 查看
    4 图形 - 57721486 初审公告 2021-07-15 查看
    5 图形 - 57721467 等待实质审查 2021-07-15 查看
    6 时利可 - 57713125 初审公告 2021-07-15 查看

    专利信息74

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 中性色双层减反射镀膜及具有该镀膜的玻璃及其制备方法 发明专利 CN202010870832.4 CN114105488A 2022-03-01
    2 一种ZnO-SiO2双涂层的下转换减反射膜及其制备方法 发明专利 CN202111182344.5 CN113788631A 2021-12-14
    3 减反射膜用下沉式烘干装置 实用新型 CN202120910575.2 CN215002616U 2021-12-03
    4 复合自清洁减反射膜生产设备 实用新型 CN202120910667.0 CN214991176U 2021-12-03
    5 散射镀膜玻璃烘干喷涂一体机 实用新型 CN202120910344.1 CN214975090U 2021-12-03
    6 玻璃用散射镀膜反应釜 实用新型 CN202120891301.3 CN214973981U 2021-12-03
    7 一种ZnO量子点掺杂的下转换减反射膜及其制备方法 发明专利 CN202110697660.X CN113461341A 2021-10-01
    8 降低栅极漏电的p-GaN栅增强型GaN-HEMT器件及其制作方法 发明专利 CN202110622461.2 CN113363320A 2021-09-07
    9 一种硅基ZnO量子点减反射膜及其制备方法 发明专利 CN202110396253.5 CN113224177A 2021-08-06
    10 一种ZnO量子点掺杂的SiO2下转换减反射膜及其制备方法 发明专利 CN202011189254.4 CN112768533A 2021-05-07

    软件著作权0

    暂无信息 暂无软件著作权

    作品著作权1

    序号 作品名 作品类别 登记号 创作完成日期 首次发表日期 登记批准日期
    1 时利可 - 国作登字-2021-F-00218942 - 2021 2021

    网站备案0

    暂无信息 暂无网站备案
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