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    上海新阳半导体材料股份有限公司

    存续
    • 地址:上海市松江区思贤路3600号
    • 简介:-
    • 商标信息 9
    • 专利信息 376
    • 软件著作权 0
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 2

    商标信息9

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 SY 新阳 SINYANG 01类-化学原料 52757708 等待实质审查 2021-01-05 查看
    2 SY SINYANG WWW.SINYANG.COM.CN 07类-机械设备 52756498 等待实质审查 2021-01-05 查看
    3 新阳 SY SINYANG 09类-科学仪器 52751931 等待实质审查 2021-01-05 查看
    4 SY 新阳 SINYANG 07类-机械设备 52741561 等待实质审查 2021-01-05 查看
    5 SY SINYANG WWW.SINYANG.COM.CN 09类-科学仪器 52734973 等待实质审查 2021-01-05 查看
    6 SY SINYANG WWW.SINYANG.COM.CN 01类-化学原料 52730258 等待实质审查 2021-01-05 查看
    7 SY 01类-化学原料 3283800 商标已注册 2002-08-23 查看
    8 SY 07类-机械设备 3283799 商标已注册 2002-08-23 查看
    9 SINYANG 01类-化学原料 1573629 商标已注册 2000-03-31 查看

    专利信息376

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817663.8 CN111925803B 2021-10-01
    2 高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817298.0 CN111925802B 2021-10-01
    3 一种高选择比蚀刻液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817231.7 CN111925799B 2021-10-01
    4 高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817220.9 CN111925797B 2021-10-01
    5 一种蚀刻液组合物、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817676.5 CN111925805B 2021-09-28
    6 高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817664.2 CN111925804B 2021-09-28
    7 一种蚀刻液组合物、其制备方法及应用 发明专利 CN202010817221.3 CN111925798B 2021-09-28
    8 一种高选择比氮化硅蚀刻液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010822571.9 CN111849487B 2021-09-28
    9 金刚线切割液及其制备方法和应用 发明专利 CN201910649488.3 CN110295082B 2021-09-28
    10 离子注入光刻胶清洗液、其制备方法及应用 发明专利 CN202010210625.6 CN113433807A 2021-09-24

    软件著作权0

    暂无信息 暂无软件著作权

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案2

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 上海新阳半导体材料股份有限公司 www.sinyang.com.cn 沪ICP备19027903号 企业 2019-08-13
    2 上海新阳半导体材料股份有限公司 www.sinyang.com.cn 沪ICP备19027903号 企业 2019-08-13
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