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    东莞清芯半导体科技有限公司

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    • 地址:广东省东莞市松山湖园区学府路1号11栋522室
    • 简介:-
    • 商标信息 1
    • 专利信息 20
    • 软件著作权 0
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 1

    商标信息1

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 TSINSIC 09类-科学仪器 57075752 等待实质审查 2021-06-21 查看

    专利信息20

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种带浮空区的低导通电阻双沟槽碳化硅IGBT器件与制备方法 发明专利 CN201710781879.1 CN107731893B 2020-02-11
    2 一种带浮空区的低导通电阻碳化硅IGBT器件与制备方法 发明专利 CN201710781881.9 CN107731894B 2020-02-07
    3 一种低导通电阻、小栅电荷的双沟槽碳化硅IGBT器件与制备方法 发明专利 CN201710781882.3 CN107731912B 2019-10-29
    4 一种低导通电阻、小栅电荷的碳化硅IGBT器件与制备方法 发明专利 CN201710781811.3 CN107611022B 2019-10-29
    5 一种低导通电阻、小栅电荷的碳化硅超结MOSFET器件与制备方法 发明专利 CN201710781886.1 CN107731923B 2019-09-03
    6 一种含内置浮空区的低导通电阻碳化硅MOSFET器件与制备方法 发明专利 CN201710781884.2 CN107623043B 2019-06-14
    7 一种低导通电阻、小栅电荷的碳化硅MOSFET器件与制备方法 发明专利 CN201710781876.8 CN107482062B 2019-06-04
    8 一种带浮空区的低导通电阻碳化硅超结MOSFET器件与制备方法 发明专利 CN201710781878.7 CN107731922B 2019-05-21
    9 一种双沟槽的低导通电阻、小栅电荷的碳化硅MOSFET器件与制备方法 发明专利 CN201710781888.0 CN107658340B 2019-05-21
    10 一种双沟槽的带浮空区的低导通电阻碳化硅MOSFET器件与制备方法 发明专利 CN201710781880.4 CN107658214B 2019-05-07

    软件著作权0

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    作品著作权0

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    网站备案1

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 清芯半导体科技有限公司 www.tsinsicsemi.com 粤ICP备2020138822号 企业 2020-12-25
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