商标信息1
序号 | 商标名称 | 国际分类 | 注册号 | 状态 | 申请日期 | 操作 |
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1 | TSINSIC | 09类-科学仪器 | 57075752 | 等待实质审查 | 2021-06-21 | 查看 |
专利信息20
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 一种带浮空区的低导通电阻双沟槽碳化硅IGBT器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781879.1 | CN107731893B | 2020-02-11 |
2 | 一种带浮空区的低导通电阻碳化硅IGBT器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781881.9 | CN107731894B | 2020-02-07 |
3 | 一种低导通电阻、小栅电荷的双沟槽碳化硅IGBT器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781882.3 | CN107731912B | 2019-10-29 |
4 | 一种低导通电阻、小栅电荷的碳化硅IGBT器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781811.3 | CN107611022B | 2019-10-29 |
5 | 一种低导通电阻、小栅电荷的碳化硅超结MOSFET器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781886.1 | CN107731923B | 2019-09-03 |
6 | 一种含内置浮空区的低导通电阻碳化硅MOSFET器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781884.2 | CN107623043B | 2019-06-14 |
7 | 一种低导通电阻、小栅电荷的碳化硅MOSFET器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781876.8 | CN107482062B | 2019-06-04 |
8 | 一种带浮空区的低导通电阻碳化硅超结MOSFET器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781878.7 | CN107731922B | 2019-05-21 |
9 | 一种双沟槽的低导通电阻、小栅电荷的碳化硅MOSFET器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781888.0 | CN107658340B | 2019-05-21 |
10 | 一种双沟槽的带浮空区的低导通电阻碳化硅MOSFET器件与制备方法 | 发明专利 | CN201710781880.4 | CN107658214B | 2019-05-07 |
软件著作权0
作品著作权0
网站备案1
序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
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1 | 清芯半导体科技有限公司 | www.tsinsicsemi.com | 粤ICP备2020138822号 | 企业 | 2020-12-25 |
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