商标信息1
序号 | 商标名称 | 国际分类 | 注册号 | 状态 | 申请日期 | 操作 |
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1 | CPEC | - | 5230614 | 等待实质审查 | 2006-03-22 | 查看 |
专利信息23
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
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1 | 可有效降低栅极电阻和栅极电容的柱栅金氧半场效晶体管 | 实用新型 | CN201320360360.3 | CN203553174U | 2014-04-16 |
2 | 量子场分布的Trench MOSFET沟槽终端结构 | 实用新型 | CN201320254968.8 | CN203277388U | 2013-11-06 |
3 | 一种功率MOSFET的沟槽终端结构 | 实用新型 | CN201320254969.2 | CN203260588U | 2013-10-30 |
4 | 可有效降低栅极电阻和栅极电容的柱栅金氧半场效晶体管及其制造方法 | 发明专利 | CN201310250184.2 | CN103346167A | 2013-10-09 |
5 | 一种功率MOSFET的沟槽终端结构及制造方法 | 发明专利 | CN201310173433.2 | CN103295911A | 2013-09-11 |
6 | 量子场分布的Trench MOSFET沟槽终端结构及制造方法 | 发明专利 | CN201310173432.8 | CN103280452A | 2013-09-04 |
7 | 一种具有沟槽源极场板的Trench MOSFET晶体管 | 实用新型 | CN201220433435.1 | CN202758892U | 2013-02-27 |
8 | 一种宽输入电压高电源抑制比基准电压源 | 发明专利 | CN201110033087.9 | CN102053645B | 2013-01-16 |
9 | 一种具有沟槽源极场板的Trench MOSFET晶体管及其制备方法 | 发明专利 | CN201210311691.8 | CN102856385A | 2013-01-02 |
10 | 沟槽式金属氧化物半导体场效应晶体管及其制造方法 | 发明专利 | CN201110027235.6 | CN102110717B | 2013-01-02 |
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