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商标信息1

序号	商标名称	国际分类	注册号	状态	申请日期	操作
1	亚芯科技园	-	56749220	初审公告	2021-06-08	查看

专利信息21

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	大尺寸高熵高纯度难熔金属合金溅射靶材及其制备工艺	发明专利	CN202210072452.5	CN114525485A	2022-05-24
2	集成电路芯片用大尺寸超高纯钒溅射靶材及其制备工艺	发明专利	CN202210072450.6	CN114438472A	2022-05-06
3	用于制备难熔高熵合金靶材的CVD系统及其控制方法	发明专利	CN202210093649.7	CN114411113A	2022-04-29
4	大尺寸钼溅射靶材及采用化学气相沉积法的制备工艺	发明专利	CN202111621882.X	CN114318256A	2022-04-12
5	高熵合金旋转靶材及其冷喷涂的制备方法	发明专利	CN202111433186.6	CN114086142A	2022-02-25
6	一种用于高纯钨坯体制备的尾气处理系统	实用新型	CN202022220865.2	CN214020071U	2021-08-24
7	高纯度钛粉、钨钛合金溅射靶材的制备方法及系统	发明专利	CN202110553332.2	CN113275589A	2021-08-20
8	一种倒装键合机用加压机构	实用新型	CN202022196925.1	CN213702415U	2021-07-16
9	一种精密真空镀膜系统	实用新型	CN202022197303.0	CN213327812U	2021-06-01
10	一种高纯钨坯体制备系统	实用新型	CN202022193448.3	CN213327763U	2021-06-01

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