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  • 国晶辉

    北京国晶辉红外光学科技有限公司

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    • 地址:北京市海淀区北三环中路43号二区
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    • 商标信息 0
    • 专利信息 109
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    • 作品著作权 0
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    专利信息109

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 半导体原料清洗装置 实用新型 CN202020912443.9 CN213856016U 2021-08-03
    2 氧化硼脱水装置 实用新型 CN202020926823.8 CN212870454U 2021-04-02
    3 一种单晶炉保温盖结构 实用新型 CN201922387136.3 CN211947285U 2020-11-17
    4 一种用于合成半导体多晶材料的反应管装置 实用新型 CN201922396353.9 CN211689296U 2020-10-16
    5 一种直拉单晶炉底部用保温装置及直拉单晶炉 实用新型 CN201922387139.7 CN211689294U 2020-10-16
    6 用于悬浮坩埚的调节支架以及坩埚套装 实用新型 CN201920877424.4 CN210636096U 2020-05-29
    7 晶体切割用角度调整装置 实用新型 CN201822026490.9 CN209812832U 2019-12-20
    8 一种步进式移动平台及锗单晶位错密度测试装置 实用新型 CN201822048631.7 CN209690198U 2019-11-26
    9 一种实现内圆切片机不停机连续切片的方法 发明专利 CN201310602797.8 CN104647614B 2016-06-29
    10 新型锗原料清洗腐蚀装置 实用新型 CN201420806894.9 CN204369994U 2015-06-03

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