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    安集微电子(上海)有限公司

    存续
    • 地址:中国(上海)自由贸易试验区碧波路889号1幢E座第1至第2层、以及第3层的部分区域
    • 简介:-
    • 商标信息 40
    • 专利信息 586
    • 软件著作权 0
    • 作品著作权 0
    • 网站备案 1

    商标信息40

    序号 商标名称 国际分类 注册号 状态 申请日期 操作
    1 ANJIAP - 5576195 商标无效 2006-08-31 查看
    2 ANJIAP - 5576194 商标无效 2006-08-31 查看
    3 ANJIMPS - 5576193 商标无效 2006-08-31 查看
    4 ANJIMPS - 5576192 商标无效 2006-08-31 查看
    5 ANJIMPS - 5576191 商标无效 2006-08-31 查看
    6 ANJIMPS - 5576190 商标无效 2006-08-31 查看
    7 ANJITCU - 5576189 商标已注册 2006-08-31 查看
    8 ANJITCU - 5576188 商标已注册 2006-08-31 查看
    9 ANJITCU - 5576187 商标已注册 2006-08-31 查看
    10 ANJITCU - 5576186 商标已注册 2006-08-31 查看

    专利信息586

    序号 专利名称 专利类型 申请号 公开(公告)号 公布日期
    1 一种化学机械抛光液及其使用方法 发明专利 CN201911409271.1 CN113122146A 2021-07-16
    2 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911407778.3 CN113122145A 2021-07-16
    3 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911403893.3 CN113122144A 2021-07-16
    4 一种化学机械抛光液及其在铜抛光中的应用 发明专利 CN201911402367.5 CN113122143A 2021-07-16
    5 一种去除有机物中微量阴、阳离子的方法 发明专利 CN201911397725.8 CN113121622A 2021-07-16
    6 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911329440.0 CN113004802A 2021-06-22
    7 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911327408.9 CN113004801A 2021-06-22
    8 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911327371.X CN113004800A 2021-06-22
    9 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911320536.0 CN113004798A 2021-06-22
    10 一种化学机械抛光液 发明专利 CN201911320533.7 CN113004797A 2021-06-22

    软件著作权0

    暂无信息 暂无软件著作权

    作品著作权0

    暂无信息 暂无作品著作权

    网站备案1

    序号 网站名 网址 备案号 主办单位性质 审核日期
    1 安集微电子(上海)有限公司 www.anjimicro.com 沪ICP备05027402号 企业 2019-07-31
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