商标信息40
序号 | 商标名称 | 国际分类 | 注册号 | 状态 | 申请日期 | 操作 |
---|---|---|---|---|---|---|
1 | ANJIAP | - | 5576195 | 商标无效 | 2006-08-31 | 查看 |
2 | ANJIAP | - | 5576194 | 商标无效 | 2006-08-31 | 查看 |
3 | ANJIMPS | - | 5576193 | 商标无效 | 2006-08-31 | 查看 |
4 | ANJIMPS | - | 5576192 | 商标无效 | 2006-08-31 | 查看 |
5 | ANJIMPS | - | 5576191 | 商标无效 | 2006-08-31 | 查看 |
6 | ANJIMPS | - | 5576190 | 商标无效 | 2006-08-31 | 查看 |
7 | ANJITCU | - | 5576189 | 商标已注册 | 2006-08-31 | 查看 |
8 | ANJITCU | - | 5576188 | 商标已注册 | 2006-08-31 | 查看 |
9 | ANJITCU | - | 5576187 | 商标已注册 | 2006-08-31 | 查看 |
10 | ANJITCU | - | 5576186 | 商标已注册 | 2006-08-31 | 查看 |
专利信息586
序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 一种化学机械抛光液及其使用方法 | 发明专利 | CN201911409271.1 | CN113122146A | 2021-07-16 |
2 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911407778.3 | CN113122145A | 2021-07-16 |
3 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911403893.3 | CN113122144A | 2021-07-16 |
4 | 一种化学机械抛光液及其在铜抛光中的应用 | 发明专利 | CN201911402367.5 | CN113122143A | 2021-07-16 |
5 | 一种去除有机物中微量阴、阳离子的方法 | 发明专利 | CN201911397725.8 | CN113121622A | 2021-07-16 |
6 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911329440.0 | CN113004802A | 2021-06-22 |
7 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911327408.9 | CN113004801A | 2021-06-22 |
8 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911327371.X | CN113004800A | 2021-06-22 |
9 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911320536.0 | CN113004798A | 2021-06-22 |
10 | 一种化学机械抛光液 | 发明专利 | CN201911320533.7 | CN113004797A | 2021-06-22 |
软件著作权0
作品著作权0
网站备案1
序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
---|---|---|---|---|---|
1 | 安集微电子(上海)有限公司 | www.anjimicro.com | 沪ICP备05027402号 | 企业 | 2019-07-31 |
邮箱
电话
公司简介
企业联系方式
关注公众号,免费查看企业全部联系方式
请使用微信扫描二维码关注「满商公司网」
满商公司网
2亿企业免费查
企业信息变动早知道
欢迎登录
没有账户?立即注册
获取验证码
找回密码
返回登录
欢迎登录
返回登录
获取验证码