沈阳科友真空技术有限公司-工商信息-满商公司网

请输入想查询的关键字

查询

退出

头部vip图标

浏览历史

清除

商标信息 3
专利信息 15
软件著作权 6
作品著作权 0
网站备案 1

商标信息3

序号	商标名称	国际分类	注册号	状态	申请日期	操作
1	SKYVAC	-	34682799	商标已注册	2018-11-15	查看
2	VACSPUTTER	-	34682798	商标已注册	2018-11-15	查看
3	PLASARC	-	34682797	商标已注册	2018-11-15	查看

专利信息15

序号	专利名称	专利类型	申请号	公开（公告）号	公布日期
1	一种干簧管继电器触点用多层膜结构	实用新型	CN201921369626.4	CN212476871U	2021-02-05
2	一种干簧管继电器触点用多层膜结构及其制备方法	发明专利	CN201910777713.1	CN110541150A	2019-12-06
3	一种极高靶材利用率的镀膜设备	发明专利	CN201610065026.3	CN107022742A	2017-08-08
4	一种PEMS等离子体增强磁控溅射镀膜设备	发明专利	CN201610064770.1	CN107022741A	2017-08-08
5	一种等离子体化学气相沉积镀膜装置	实用新型	CN201620206505.8	CN205443446U	2016-08-10
6	一种碳纳米材料制备电弧炉	实用新型	CN201620094753.8	CN205373392U	2016-07-06
7	一种等离子体辅助感应加热法制备石墨烯的装置	实用新型	CN201620094752.3	CN205368492U	2016-07-06
8	富勒烯连续制备真空设备	发明专利	CN201010102889.6	CN102139871B	2013-03-06
9	一种真空磁控溅射彩镀设备	发明专利	CN200910012996.7	CN101988187B	2012-11-07
10	磁控增强离子镀铝工艺及装置	发明专利	CN201010131250.0	CN102199753A	2011-09-28

软件著作权6

序号	软件名称	软件简称	版本号	登记号	分类号	首次发表日期	登记批准日期
1	一种极高靶材利用率的镀膜设备自动运行管理系统	-	V1.0	2019SR1272606	10100-0000	2019-07-08	2019-12-03
2	一种真空磁控溅射彩镀设备智能化管理系统	-	V1.0	2019SR1272598	10100-0000	2019-05-29	2019-12-03
3	等离子体化学气相沉积镀膜装置智能控制系统	-	V1.0	2019SR1261078	30200-0000	2019-08-13	2019-12-02
4	等离子体增强磁控溅射电气控制系统	-	V1.0	2019SR1087413	30200-0000	2018-06-09	2019-10-28
5	多弧离子镀膜设备全自动控制系统	-	V1.0	2019SR1085228	30200-0000	2019-05-21	2019-10-25
6	真空离子镀金设备智能控制系统	-	V1.0	2019SR1084394	30200-0000	2018-08-26	2019-10-25

作品著作权0

暂无信息

暂无作品著作权

网站备案1

序号	网站名	网址	备案号	主办单位性质	审核日期
1	-	www.skyvacuum.com	辽ICP备18018187号	企业	2018-12-10

vip

企业联系方式

关注公众号，免费查看企业全部联系方式

请使用微信扫描二维码关注「满商公司网」