商标信息2
专利信息7
| 序号 | 专利名称 | 专利类型 | 申请号 | 公开(公告)号 | 公布日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 相位移掩模版、掩模版修补方法及设备 | 发明专利 | CN202110858794.5 | CN113467180A | 2021-10-01 |
| 2 | 光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法 | 发明专利 | CN202110126225.1 | CN112934859A | 2021-06-11 |
| 3 | 光罩杂质去除设备和光罩杂质去除方法 | 发明专利 | CN202110104814.X | CN112934850A | 2021-06-11 |
| 4 | 光罩缺陷修复方法、光罩制备方法和光罩 | 发明专利 | CN202011516646.7 | CN112526820A | 2021-03-19 |
| 5 | 一种光罩工艺误差修正方法 | 发明专利 | CN202011276292.3 | CN112180678A | 2021-01-05 |
| 6 | 残胶清除方法 | 发明专利 | CN202011012230.1 | CN112117184A | 2020-12-22 |
| 7 | 相位移光罩残留缺陷处理方法、系统和相位移光罩 | 发明专利 | CN202010879382.5 | CN111830779A | 2020-10-27 |
软件著作权0
暂无软件著作权
作品著作权0
暂无作品著作权
网站备案1

| 序号 | 网站名 | 网址 | 备案号 | 主办单位性质 | 审核日期 |
|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 泉意光罩光电科技(济南)有限公司官网 | www.qymask.com.cn | 鲁ICP备2021039428号 | 企业 | 2021-11-03 |
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